正确答案:

取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

E

题目:初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

解析:后腭杆一般应离开黏膜0.5~1mm,该题目设计离开黏膜过高,因此应重新取印模重新制作腭杆,故此题选E。

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